Intel 強化與 ASML 合作,以 2025 年 High-NA 高數值孔徑量產為目標

2022.01.20 12:37PM

Intel 在由 Pat Gelsinger 接任執行長後積極推動半導體製程發展,除了全球廣設新廠房的規劃與發展新製程以外, Intel 也積極進行新一代設備採購,宣布向荷蘭 ASML 下定業界首台 TWINSCAN EXE:5200 系統,為 2025 年量產 High-NA 高數值孔徑率先準備。

Intel 在 2021 年 7 月 Accelarated 活動宣布 High-NA 技術計畫版圖,此次也是 Intel 在 2018 年率先向 ASML 下定 TWINSCAN EXE:5000 系統後,再度成為 ASML 新一代系統的首位買家。

TWINSCAN EXE:5200 系統是一款具備 High-NA 極紫外光 EUV 的大量生產系統,具備每小時 200 片以上產能,而 ASML 的 EXE 平台是 EUV 技術的發展型,借助新穎光學設計與大幅提升速度的光罩與晶圓階段,相較原本 EUV 設備的 0.33 數值孔徑鏡片,能提供更精準的 0.55 數值孔徑,足以為更小的電晶體特徵提供解析度圖案化。

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