Intel在3月2日釋出一段短片，慶祝ASML的High NA EUV曝光設備正式運抵美國俄勒岡工廠並進行安裝，這套系統是Intel於2022年向ASML訂購新一代曝光機TWINSCAN EXE:5200的關鍵元件，是作為Intel於2025年大規模量產NA EUV計畫的一環，特地拍攝短片也可視為Intel半導體向外界信心喊話的宣傳。
Intel已在2018年向ASML訂購前一代的TWINSCAN EXE:5000，而TWINSCAN EXE:5200的NA(數值孔徑)為0.55，相較前一代系統能夠實現更精細的圖案，每小時可生產超過200片晶圓。根據Intel的規劃，Intel預計於2024年上半年量產20A製程，2024年年末至2025年進入18A製程。
